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池浦 広美*; 関口 哲弘
Photon Factory Activity Report 2013, Part B, P. 518, 2014/00
積層型有機電導性分子は分子エレクトロニクスへの応用が広く期待されている。有機半導体における伝導帯の電子構造の直接的な観測が行えれば、電導メカニズムの理解が一層進むと期待される。ペンタセンに置換基を導入した誘導体分子はより良い電子性能が発揮されることが実証されている。本研究ではペンタセン誘導体の薄膜に関して、放射光を用いた角度依存X線吸収端微細構造(NEXAFS)法により表面配向効果を明らかにし 薄膜分子積層モデルを考察した。また、DVX
密度汎関数法を用い、価電子帯の状態密度や軌道対称性を計算した。また内殻電子軌道から空軌道への共鳴遷移エネルギーと遷移強度を求め、X線吸収実験の結果と比較した。
今園 孝志
no journal, ,
原子力機構関西光科学研究所は波長13.9nmのX線レーザー(XRL)光源を有し、その短パルス性や可干渉性を利用した干渉計測等の研究が行われている。XRL応用研究では多くの軟X線光学素子、特にMo/Si多層膜が用いられ、その光学特性はSRセンターBL-11(2013年7月まで原子力機構の占有ビームライン)の軟X線反射率計を用いて評価されてきた。また、Mo/Si多層膜は偏光素子として機能することが知られ、BL-11の最下流側に設置された軟X線偏光解析装置で偏光特性が評価されてきた。本講演会では、Mo/Si多層膜偏光素子を用いた放射光及びXRLの偏光制御技術について述べる。